 Mögliche Anwendungen in magnetischen Speichermedien machen die magnetische Strukturierung attraktiv, vor allem in Medien mit senkrechter magnetischer Anisotropie. Magnetische Multilagenschichtsysteme mit nicht kollinearer Magnetisierungskonfiguration, wie z.B. (NiFe/Au/Co/Au)N weisen solche Anisotropien auf und lassen ihre magnetischen Eigenschaften durch He Ionenbeschuss einstellen. In diesem Projekt soll die Kombination von He Ionenbeschuss und Nanopartikel Lithographie genutzt werden, um solche Multilagenschichtsysteme magnetisch zu strukturieren. Unter Nanopartikel Lithographie versteht man dabei die Nutzung einer Monolage selbst-organisierender Polystyrol Partikel als Maske, die nach dem Ionenbeschuss abgelöst werden kann. Mit dieser Methode ist es also möglich, topographisch flache, aber magnetisch strukturierte Muster zu erhalten. Erste Ergebnisse zeigen, dass die Änderung der Domänenstruktur nur im externen Feld zu beobachten ist: In Remanenz ist die typische Streifenstruktur zu sehen, wie sie auch bei unbeschossenen Proben auftritt. Aber im externen Feld wird die hexagonale Struktur offensichtlich. Dies wird erklärt durch die Tatsache, dass die Periode der Streifendomänen im externen Feld in der gleichen Größenordnung liegt wie die Periode des Nanopartikelgitters, in Remanenz ist diese Periode jedoch deutlich kleiner. Weitere Untersuchungen zielen darauf, die Größe der Nanopartikel sowie die Schichtdicken des Systems zu variieren, um die Größe der Streifendomänen und die Periode des Partikelgitters anzupassen und so die Domänenstruktur gezielt bestimmen zu können.
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